A litografia de silício a laser continuará sendo o método dominante para a produção de chips na próxima década

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Já em maio, a ASML, líder no segmento de scanners de litografia, falou sobre as perspectivas de surgimento até o início da próxima década de sistemas que permitam trabalhar com um valor de abertura numérica ultra-alto de 0,75 (Hyper-NA EUV). Representantes do Imec afirmam que a litografia continuará a utilizar lasers e silício na próxima…

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SK hynix começará a estudar equipamentos ASML para litografia EUV de alta abertura numérica

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No final de dezembro do ano passado, a empresa holandesa ASML despachou o primeiro exemplar do scanner de litografia da geração EUV High-NA, que se caracteriza por alta abertura numérica e aumenta a resolução de equipamentos para produção de componentes semicondutores. O destinatário desta instalação foi a Intel, mas a administração da SK hynix afirma…