A litografia de silício a laser continuará sendo o método dominante para a produção de chips na próxima década
Já em maio, a ASML, líder no segmento de scanners de litografia, falou sobre as perspectivas de surgimento até o início da próxima década de sistemas que permitam trabalhar com um valor de abertura numérica ultra-alto de 0,75 (Hyper-NA EUV). Representantes do Imec afirmam que a litografia continuará a utilizar lasers e silício na próxima…